半導體硅片廢水處理工藝是一個復雜的過程，涉及到多種技術和方法。主要目的是去除廢水中的污染物，使其達到排放標準或回用標準。

一、半導體硅片廢水來源及特點

半導體硅片廢水主要來源于硅片表面清洗、蝕刻、去磷硅玻璃清洗等工序，以及設備清洗和試驗過程中。廢水成分復雜，含有多種化學物質如氫氟酸(HF)、硝酸(HNO3)、硫酸(H2SO4)、氫氧化鈉(NaOH)、有機溶劑以及重金屬離子等。這些廢水通常具有污染物濃度高、生物降解性差、水質波動大等特點。

二、半導體硅片廢水處理方法

1.HUBF水解酸化+HFST好氧工藝：這是一種常用的廢水處理工藝，涉及到鋼制罐體的使用。這種工藝能夠有效地處理半導體硅片生產過程中產生的廢水，包括前端物化預處理、末端氣浮及置換等步驟。此外，鋼罐內部聚脲防腐也是該工藝的一部分，以確保處理系統的長期穩定運行。

2.超純水（UPW）的使用：在半導體制造過程中，超純水被用于制造不含任何雜質的半導體。使用過的廢水必須經過處理后才能正確排放或再生。SK海力士等公司在水資源管理方面采取了嚴格的措施，包括活性炭、總磷去除設備等，以深度處理廢水。

3.廢水的分類處理：半導體廢水通常包括含銅、鎳、錫等重金屬廢水，含氟離子廢水以及由研磨硅片產生的廢水。這些廢水需要通過特定的處理工序來減少污水排放，降低廢水處理系統的成本，并實現水資源的循環利用。

4.物理、化學和生物處理：半導體硅片行業廣泛采用物理、化學和生物處理工藝來減少廢水排放對環境的影響。物理處理包括沉淀、過濾、蒸發濃縮等；化學處理涉及使用化學品來去除或中和廢水中的污染物；生物處理則利用微生物來分解有機物質。

5.廢氣和廢水的結合處理：提供了針對半導體行業需求定制的更全產品組合，包括在廢氣起始點直接處理廢氣的系統，以及處理濕法工藝過程產生的廢水。這些系統可以清理廢氣中的有害物質，并從廢水中清理氟化物、銨和有機物質。

6.較好制程廢水處理技術：隨著半導體制造進入更較好的制程，如28納米制程，廢水處理技術也需要相應升級以滿足更嚴格的排放規則。這包括對廢水排放的影響進行評估，以及對廢水處理系統進行改進。

7.水資源的循環利用：還有的公司通過持續的技術升級和工藝改進，為半導體企業提供了更好、可靠的水處理解決方案，實現了廢水處理和水資源再利用水平的提升。

這些工藝和技術的結合，使得半導體硅片廢水處理能夠達到環保標準，同時實現資源的循環利用。